СОВРЕМЕННОЕ ВАКУУМНОЕ СПЕКАЮЩЕЕ ОБОРУДОВАНИЕ
+7 (495) 223-40-00
+7 (495) 223-40-00
TOKYO BOEKI

Вертикальная газовая печь высокого давления серии G

Конструкция печи оборудования для пропитки под дифференциальным давлением в основном состоит из корпуса печи, верхней системы теплоизоляции и нагрева, нижнего нагревательного элемента...

Сделать запрос  

Технические характеристики

1. Оборудование спроектировано и изготовлено в соответствии с требованиями к сосудам под давлением 3-го класса; корпус печи выполнен из стали марки 16MnR или нержавеющей стали марки 304.

2. Запорный механизм дверцы печи представляет собой быстроразъемное фланцевое соединение (с засовами или зубчатым зацеплением), отличающееся простотой в эксплуатации, безопасностью и надежностью.

3. Подъем и опускание крышки печи осуществляются с помощью электрогидравлического привода, что упрощает управление и снижает трудоемкость работ.

4. В качестве теплоизоляционного материала используется композитный жесткий войлок (с пиролитическим углеродным покрытием), а нагревательные элементы изготовлены из графита немецкого производства.

Технический обзор

G3VGR20 PVSgr-30/50-2000 / GR / Вертикальная / Нижняя загрузка / 300?500 / 10 / 10 Па / 2000
G5VGR20 PVSgr-50/80-2000 / GR / Вертикальная / Нижняя загрузка / 500?800 / 6/10 / 10 Па / 2000
G7VGR20 PVSgr-70/250-2000 / GR / Вертикальная / Верхняя/нижняя загрузка / 700?2500 / 6/10 / 10 Па / 2000
Технологический процесс

Обзор процесса SPS

Метод искрового плазменного спекания сочетает воздействие импульсного постоянного тока с одноосным давлением, что позволяет уплотнять порошки за минуты, а не за часы.

1

Засыпка порошка

Порошок загружают в электропроводящую графитовую пресс-форму, расположенную между верхним и нижним электродами-пуансонами.

Материал пресс-формы: графит (стандартное исполнение) или композитный материал.

2

Система вакуумирования / создания атмосферы

Камеру вакуумируют или заполняют инертным газом для создания чистой среды обработки.

Атмосфера: вакуум или Ar/N2

3

Импульсный ток + давление

Одновременно прикладываются импульсный постоянный ток и одноосное давление, что обеспечивает быстрый джоулев нагрев матрицы и образца.

Скорость нагрева до ~1000 °C/мин; давление до 150 МПа

4

Краткосрочное удержание и уплотнение застройки

Кратковременная выдержка при максимальной температуре позволяет достичь плотности, близкой к теоретической, в процессе уплотнения, активируемого искровым или плазменным разрядом.

Пиковая температура до 2500 °C; выдержка обычно исчисляется минутами, а не часами.

5

Быстрое охлаждение и выгрузка

Подачу тока прекращают, прессовку быстро охлаждают, а затем извлекают из пресс-формы для последующей обработки.

Охлаждение в значительной степени определяется теплоемкостью кристалла и камеры.